IMI推出用于氮化硅LPCVD應用的突破性技術
發布：安陽市世鑫氮化制品有限責任公司 瀏覽：3824次 發布時間：2018-08-01 11:59:39
硅科技公司Integrated Materials?, Inc. (IMI)昨日宣布取得一項重大研究突破，該技術將大幅提高該公司用于氮化硅(SiN) LPCVD應用的SiFusion?牌超純多晶硅爐的性能，并延長其使用壽命。這種已申報的獨特方法有望通過大幅延長維護活動之間的時間并減少顆粒缺陷，以的幅度提高SiN爐生產效率。該技術的工作原理是修改多晶硅表面的分子屬性，形成一種適宜于薄膜附著力與應力管理的表面狀態。
IMI的技術總監Sang In Lee博士說：“‘表面修改與分子加入處理’(SUMMIT)工藝是一種新工藝，可以增強硅表面和SiN薄膜等高應力薄膜之間的附著力。與IMI的專有表面處理技術相結合，SUMMIT工藝可以提供更好的粒子性能和比石英及SiC爐更長的清洗間隔期(MTBC)，從而提高IMI的硅熱場的生產效率與性能。”
該技術的生產價值評估正在多個客戶所在地進行，與IMI的戰略營銷伙Tokyo Electron的聯合評估也在同步進行中。IMI相信，這一突破技術可將其SiN應用方面的性能優勢提高到其競爭者望塵莫及的水平，進一步展示了其SiFusion?超純多晶硅產品線的技術特色。
IMI執行官Daniel Rubin說：“我們相信，我們的新解決方案將有利于在現有技術節點下，更加有效地利用分批處理爐氮化硅工藝，并實現將現有分批處理爐工藝延伸到未來節點。這一成果無疑會提高生產效率，但是更重要的是，將減少粒子數，并提高產量。這一SUMMIT工藝成果是SiFusion?超純多晶硅爐在2004年推出后，取得的大的多晶硅爐成果。”
對于構成LPCVD半導體爐管區中的處理室的可消耗部件，使用得廣泛的術語是爐具(furnaceware)。IMI通過在其整個200毫米和300毫米SiN產品線(包括塔、底座、襯墊、噴嘴、擋板和檔片)中采用SUMMIT工藝，為尋求大幅提高SiN性能并降低成本的客戶帶來了一個完整的解決方案。
